太陽電池形成方法及び太陽電池

Abstract

【要約書】太陽電池を形成する太陽電池形成方法において、プリドーピング領域を有し、シリコン基板である半導体ウェーハを準備する工程と、半導体ウェーハへのドーパントの濃度対深さプロフィールを有する第1のイオン注入を実行し、プリドーピング領域上に第1のドーピング領域を形成する工程と、半導体ウェーハへのドーパントの、第1のイオン注入とは異なる濃度対深さプロフィールを有する第2のイオン注入を実行し、プリドーピング領域上に第2のドーピング領域を形成する工程とを有し、第1のドーピング領域及び第2のドーピング領域の少なくとも1つは、光を受光すると、電子正孔対を発生し、第1及び第2のイオン注入は、互いに独立して実行されることを特徴とする。

Claims

Description

Topics

    Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

    Patent Citations (6)

      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      JP-2001189483-AJuly 10, 2001Sharp Corp, シャープ株式会社バイパス機能付太陽電池セルおよびバイパス機能付き多接合積層型太陽電池セルおよびそれらの製造方法
      JP-2002217430-AAugust 02, 2002Samsung Sdi Co Ltd, 三星エスディアイ株式会社Pn接合太陽電池
      JP-2004273826-ASeptember 30, 2004Sharp Corp, シャープ株式会社Photoelectric converter and its fabricating process
      JP-H02201972-AAugust 10, 1990Kyocera CorpSolar cell
      JP-H07135329-AMay 23, 1995Sharp Corp, シャープ株式会社Solar cell and its fabrication
      JP-S6215864-AJanuary 24, 1987Hitachi LtdManufacture of solar cell

    NO-Patent Citations (0)

      Title

    Cited By (12)

      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      JP-2015510266-AApril 02, 2015シリコン ソーラー ソリューションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー, シリコン ソーラー ソリューションズ リミテッド ライアビリティ カンパニー太陽電池及びその製作方法
      JP-2016520996-AJuly 14, 2016イオン ビーム サービス, イオン ビーム サービスシリコンウェーハーのドーピング方法
      US-2013199604-A1August 08, 2013Silicon Solar SolutionsSolar cells and methods of fabrication thereof
      US-8697552-B2April 15, 2014Intevac, Inc.Method for ion implant using grid assembly
      US-8697553-B2April 15, 2014Intevac, IncSolar cell fabrication with faceting and ion implantation
      US-8997688-B2April 07, 2015Intevac, Inc.Ion implant system having grid assembly
      US-9303314-B2April 05, 2016Intevac, Inc.Ion implant system having grid assembly
      US-9318332-B2April 19, 2016Intevac, Inc.Grid for plasma ion implant
      US-9324598-B2April 26, 2016Intevac, Inc.Substrate processing system and method
      US-9583661-B2February 28, 2017Intevac, Inc.Grid for plasma ion implant
      US-9741894-B2August 22, 2017Intevac, Inc.Ion implant system having grid assembly
      US-9875922-B2January 23, 2018Intevac, Inc.Substrate processing system and method