Photosensitive resin composition and use thereof



PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition that does not cause development residue while maintaining residual film ratio in forming a patterned film, and can form the patterned film having excellent developability and excellent low dielectric property without impairing coated film characteristics such as heat resistance, permeability, solvent resistance, and the like even after post baking.SOLUTION: The photosensitive resin composition contains a component (A) and a component (B) as follows. A content of the component (B) is set to 5 to 50 pts.mass in terms of 100 pts.mass of the component (A). The component (A) is an itaconic acid diester copolymer containing a constitution unit (a1) induced from an itaconic acid diester monomer, a constitution unit (a2) induced from an aromatic vinyl monomer, a constitution unit (a3) induced from an α,β-unsaturated carboxylic acid monomer, and a constitution unit (a4) having a glycidyl group. The component (B) is an esterification having a quinonediazide group.
【課題】パターン膜の形成に際して残膜率を維持しつつ現像残渣がなく、現像性に優れ、ポストベーク後においても耐熱性、透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分(A)および成分(B)を含有し、各成分の構成割合が成分(A)100質量部に対して成分(B)5〜50質量部に設定されている。前記成分(A)はイタコン酸ジエステル単量体から誘導される構成単位(a1)、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位(a2)、α,β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位(a3)およびグリシジル基を有する構成単位(a4)を有するイタコン酸ジエステル共重合体である。成分(B)は、キノンジアジド基を有するエステル化物である。 【選択図】なし




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